高分辨率X射线成像系统
该高分辨率X射线成像系统是为X射线光束对准应用而设计的。它采用了独特的机械结构，可结合各种相机实现实时X射线光束对准。铍入射窗允许的X射线能量范围大，入射窗与L型石英光学系统耦合，提高了X射线辐射容限。因此，该产品适合大型同步加速器辐射设施中的高分辨率X射线光束对准。
主要特点：
● 耐X射线辐射设计 （采用石英玻璃板和L型光学系统）
● 容易更换闪烁体
● 可探测低能X射线
● 尺寸小、重量轻
● 焦点调节远程可控
● 相机安装一键式设计
● 高分辨率
主要应用：
● X射线CT
● 相衬X射线CT
● X射线光学对准
● X射线测绘
● X射线显微成像
●血管造影术
● XAFS（X射线吸收精细结构）
主要参数：
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名称 |
高分辨率X射线成像系统 |
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型号 |
M11427-41 |
M11427-42 |
M11427-51 M11427-62 |
M11427-52 |
M11427-53 |
M11427-62
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成像模块 |
AA40
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AA50 |
AA60 |
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闪烁体直径 |
17mm |
10mm |
35mm |
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输入窗口材料 |
Beryllium/0.5mm |
Beryllium/0.5mm/Amorphous carbon/2mm
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Glassy carbon/0.5mm mm |
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灵敏度范围 |
3 keV or more
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3 keV or more |
6 keV or more |
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闪烁体材料 |
P43 (Gd2O2S: Tb)
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LSO (Lu2SiO5: Ce)
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P43 (Gd2O2S: Tb)
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峰值发射波长 |
540nm |
420nm |
540nm |
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闪烁体厚度 |
10 μm
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闪烁体基材料 |
Quart glass
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Amorphous carbon plate
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Quart glass
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分辨率 |
10 μm compliant) |
4 μm
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2 μm |
1 μm |
10 μm or more
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10 % 衰减时间
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1 ms
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40ns
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1 ms
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第一个透镜 |
24 mm
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50mmF1.4
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10×NA0.3 trigger |
20×NA0.4 |
50×NA0.55 |
75 mm (F2.8)
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第二个透镜 |
105 mm, 50 mm, 35 mm
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/ |
105 mm, 50 mm, 35 mm
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ND滤光片 |
ND10 / ND1
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/ |
ND10 / ND1
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产品名称：高分辨率X射线成像系统
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产品型号：M11427系列
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产品品牌：Hamamatsu
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咨询电话：13681635035
